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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆营造厂为于苏北地域,一般加工销售8寸大半导体行业晶圆,平均污废水 直接排放标准规定口量约800吨。伴随加工销售步骤中在使用非常多的氢佛酸参与晶圆蚀刻,出现污废水 中氟化物氧化还原电位超过200-300mg/L,远超的国家直接排放标准规定口标准规定(10mg/L低于)。 化工废水营养成分及来自 化工废水关键来自五湖四海4个部分: 晶圆蚀刻工作 :含高有机废气浓度氟化物(HF)、盐酸及大量血本属 化工机械厂抛光剂(CMP)工业废水 :含微米级硅颗料、有机肥料络合剂 环保设备擦拭废水处理方法 :含异丙醇、挥发酚等有机肥料物 处理的工艺环节 进行"有机化学悠长岁月中+混疑悠长岁月中+长度过滤装置"3级除理系统的: 两级加工 :污泥脱水氯化钙和氢氧化物钙,确立氟化钙沉淀物,氟化物快速清理率达85% 两级办理 :使用PAC(缔合氯化铝)和PAM(聚丙酰胺),洗去电解质溶液态影响物 两级操作 :按照多媒介进行全自动过滤器中和渗透性炭气体吸附,喷水氟化物盐浓度相对稳定在8mg/L低于 关键点设施比如:pH自动化调控体统、斜管积淀池、板框带式压滤机(污泥处理出现脱水)。 从而治疗效果 产品电脑运行五年数据监测分析数据分析信息显示: 氟化物年均溶液浓度:7.2mg/L(不超过国基准) COD出掉率:92% 厌氧颗粒污泥含水分率:≤65% 年收回氟化钙副车辆约150吨,推动信息化采用

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